荣获表彰!巩小亮:奋斗书写责任担当|喜迎二十大

来源:     作者:孙友芳     发布时间:2022年09月23日     浏览次数:         

  电科装备坚决贯彻落实党中央及集团公司党组各项决策部署,始终牢记“国之大者”,在此过程中,科研技术专家带头冲锋,全力攻克技术难关,不断提升关键核心技术掌控力,助推实现高水平科技自立自强。近期,电科装备48所第三代半导体装备领域技术专家、半导体装备研究部主任巩小亮博士荣获“国资委重大工程突出贡献个人”称号。

  无论是节假日还是下班后,在微电子楼六楼和SiC外延实验室,经常可以看到电科装备48所第三代半导体装备领域技术专家、半导体装备研究部主任巩小亮博士纤瘦而专注的身影,他的眉头总是紧皱,他的工作总是“难啃的骨头”,但他的目光始终坚毅,步伐始终坚定。从 MOCVD到SiC外延,从省重大专项到省十大技术攻关项目,从有源层创新中心到第三代半导体国创中心......重大工程项目攻关、高端装备产业化的道路上,他在磨砺中成长,无私地奉献。  

  专注,才能极致

  没有工艺的装备缺少灵魂,难以形成核心竞争力。在进入48所工作以前,巩小亮是某LED制造公司外延厂MOCVD工艺工程师。2012年,他以工艺支撑加入装备国产化事业。他始终在思考,作为材料和微电子专业出身的工艺人员,如何在装备事业中起到突出的牵引作用;他始终在践行,从实验室建设与运行、工艺验证、设备改进、交流合作、项目策划、规划论证……

  从单纯工艺研究到装备研制,需要消化更多的专业知识,开展大量的试验,磨炼更强的能力。他默默扎根实验室,通过上千炉次的工艺试验不断发现问题、解决问题,提升设备的工艺性能和可靠性。基于自主研发的外延生长设备成功开发AIN外延、SiC外延等配套工艺;通过大量工艺数据反馈实现设备改进优化二十余项,形成高可靠加热器、高效进气结构等核心技术,高温MOCVD外延设备制造技术获中国电科技术发明奖一等奖;基于丰富的外延生长技术与工程项目经验,他牵头制定了MOCVD、SiC外延设备工艺验证相关电子行业标准2项;通过团队持续拼搏,第三代半导体关键装备已实现全面突破,形成局部成套应用态势。6英寸SiC外延炉更是在2022年上半年就斩获合同逾百台,赢得行业最大订单。工艺与设备的深度融合,正在成为SiC外延等高端装备持续创新和逐步走向全正向化的突出牵引力和推动力。

  

  担当,才能有为

  “没有做不做的问题,只有怎么做的问题”,“要做,就做到最好”,他是这么说的,也是这么干的。近几年来,半导体装备事业快速发展,科研项目持续翻番,在“急难险重”任务中,总能看到他的身影。在某基础科研重大项目申报中突遇技术成熟度评价材料难题,此时距离项目答辩不到一周。尽管可以有无数个理由,但他没有任何推脱,快速熟悉项目技术、了解技术成熟度评价方法、搜集辅助材料、请教行业专家,如期完成评价材料编制,支撑项目答辩顺利通过,技术成熟度评价环节获专家一致好评,完成任务的同时让技术成熟度评价方法深入骨髓,再也不会成为难题。

  这样的事例还有很多,他把每一项挑战当成提升自我的机会,在每个“不可能”变成现实的过程中感受奋斗的真谛。不断地克服挑战,练就了全面的能力,换来了重大工程答辩现场面对20余位行业顶级专家质询的从容应对。无数次挑灯夜战,换来了多个重大项目落地。近五年来,他牵头成功申报科研项目10余项,获国拨经费逾亿元。

  

  合作,才能共赢

  他秉承开放合作的理念,走出研究所,深入第三代半导体行业,挖掘技术发展趋势和装备需求特点,不断加深对行业的理解和对装备发展的认识。在第三代半导体全国性行业会议上进行学术报告多次,显著提升了电科装备影响力,精准把握行业动态与技术动向。多次与第三代半导体领域相关高校、研究所、生产企业开展技术交流,探讨合作,与中车时代电气、国防科技大学、湖南大学、中南大学等多家单位形成实质性项目合作,从仿真研究、装备验证、零部件配套研制等多层面协同创新,有力提升装备研制水平和应用能力。  

  从无到有、从“能用”到“好用”、从跟随到引领,还有很艰巨的路要走,时不我待!站在新时代潮头,唯有发扬使命担当和艰苦奋斗精神,迎难而上、奋力攀登,才能接好历史交予我们的这一棒。以巩小亮为代表的装备青年,将在这场历史洪流中“以百米跑的速度冲刺马拉松”,只争朝夕,不负韶华,在高端装备自立自强的征程中写下绚烂一章!

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